[发明专利]羟基化合物末端修饰官能团及其修饰羟基化合物的方法在审
申请号: | 202010578627.0 | 申请日: | 2020-06-23 |
公开(公告)号: | CN113831265A | 公开(公告)日: | 2021-12-24 |
发明(设计)人: | 刘世勇;史声宇 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | C07C269/06 | 分类号: | C07C269/06;C07C271/22;C08G65/333 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 关旭颖 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供了羟基化合物末端修饰官能团及其修饰羟基化合物的方法。具体地,所述修饰官能团为含有酰基叠氮的官能团分子或其转化的含有异氰酸酯的官能团分子,该修饰官能团与各种拓扑结构的聚乙二醇(PEG)、聚乳酸(PLA)、聚己内酯(PCL)、聚碳酸酯(PC)或聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)类化合物的末端羟基反应,得到含有稳定的氨基甲酸酯连接的末端功能化产物。相对于目前研究最多的羟基酯化或醚化修饰,本发明的方法反应彻底,反应时间短,功能化率高,功能化率大于99%,且得到的功能化产物的稳定性高。 | ||
搜索关键词: | 羟基 化合物 末端 修饰 官能团 及其 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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