[发明专利]一种大型托卡马克真空室非圆通道超高真空密封法兰结构在审

专利信息
申请号: 202010579376.8 申请日: 2020-06-23
公开(公告)号: CN111710442A 公开(公告)日: 2020-09-25
发明(设计)人: 侯吉来;冉红;宋斌斌;曹曾;蔡立君;黄运聪;唐乐;李瑞鋆;张炜;蔡潇;李勇 申请(专利权)人: 核工业西南物理研究院
主分类号: G21B1/05 分类号: G21B1/05;G21B1/17
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 高安娜
地址: 610041 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于磁约束核聚变技术,具体为一种大型托卡马克真空室非圆通道超高真空密封法兰结构,包括的凹法兰、凸法兰和接管;凹法兰和凸法兰相对端面内侧加工配合的两级90°密封台阶,两者之间放置铜丝圈,使得凹法兰和凸法兰沿轴向保留间隙;通过双头螺纹销或双头螺柱将凹法兰和凸法兰连接。通过90°密封台阶压缩无氧铜丝的结构方式,可以满足不同形状的非圆通道窗口法兰的超高真空密封需求,减少了非圆窗口的密封面的加工和维护难度。
搜索关键词: 一种 大型 马克 真空 圆通 超高 密封 法兰 结构
【主权项】:
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