[发明专利]一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统及其监控测量方法在审
| 申请号： | 202010580681.9 | 申请日： | 2020-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN111609802A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 吴萍;長家武彦;徐波;張詠麟;佐藤文哉;上川尚;河崎直樹;汪洋;龙汝磊;江耔昊;潘书跃;马辉 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;C23C14/54;G02B1/10 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 周宇凡 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统及其监控测量方法，其特征在于：所述监控系统包括两组或两组以上可分别独立形成监控光路的光源发送器和光源接收器，两路或两路以上所述监控光路均穿透所述镀膜基片且沿所述镀膜基片上的薄膜覆膜延伸方向间隔布置，所述光源接收器连接有将所述监控光路的光信号转化为可反映所述镀膜基片上薄膜厚度信息的数据处理器。本发明的优点是：可适用不同规格的成膜基片，且不需要调整光轴，使用方便；能够精确确定成膜基片上合格区域的范围，确保镀膜效益的最大化；监控系统还可以在镀膜过程进行中间测量光谱，进行修正，提高镀膜精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学薄膜 直接 光学 监控 系统 及其 测量方法 | ||
【主权项】：
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