[发明专利]硅蚀刻液、硅蚀刻方法以及硅鳍片结构体的制造方法有效
| 申请号： | 202010581674.0 | 申请日： | 2020-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN112143500B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 钟明谚;高滨昌 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00;C23F1/32;C23F1/02;C30B33/10;C30B29/06;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 陈亦欧;毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及硅蚀刻液、硅蚀刻方法以及硅鳍片结构体的制造方法。一种蚀刻液，含有：(A)成分：以通式(A‑1)表示的季铵碱；(C)成分：非离子表面活性剂，(C)成分的HLB值为12以上15以下。式(A‑1)中，R |
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| 搜索关键词： | 蚀刻 方法 以及 硅鳍片 结构 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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