[发明专利]深冷靶低温吸附抑制开启机构有效
申请号: | 202010585312.9 | 申请日: | 2020-06-24 |
公开(公告)号: | CN111863284B | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
发明(设计)人: | 黎军;雷海乐;刘喜川;代飞;王凯;林伟;漆小波;陶朝友;李喜波;刘元琼 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | G21B1/03 | 分类号: | G21B1/03;G21B1/13;G21B1/19 |
代理公司: | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人: | 张汉钦 |
地址: | 621900 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种深冷靶低温吸附抑制开启机构,用于在激光注入靶点前迅速将深冷靶直接暴露,包括:安装于所述悬臂基座上的电机驱动单元,包括驱动电机;安装于所述悬臂基座上的丝杆传动机构,包括运动架,用于将所述驱动电机的转动转化为所述运动架的前后向直线运动;以及前部防护部件,包括从内向外依次设置的、前端开口的低温活动屏和常温活动屏,以及具有导冷、导向作用的低温固定屏和常温固定屏。该深冷靶低温吸附抑制开启机构,低温活动屏和常温活动屏具有伸缩功能,即在对深冷靶进行有效保护,减少杂质气体和有机物质冷冻吸附到靶表面,又可在需要时快速地将深冷靶直接暴露于真空腔体环境内。 | ||
搜索关键词: | 深冷靶 低温 吸附 抑制 开启 机构 | ||
【主权项】:
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