[发明专利]深冷靶低温吸附抑制开启机构有效

专利信息
申请号: 202010585312.9 申请日: 2020-06-24
公开(公告)号: CN111863284B 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 黎军;雷海乐;刘喜川;代飞;王凯;林伟;漆小波;陶朝友;李喜波;刘元琼 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: G21B1/03 分类号: G21B1/03;G21B1/13;G21B1/19
代理公司: 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 代理人: 张汉钦
地址: 621900 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种深冷靶低温吸附抑制开启机构,用于在激光注入靶点前迅速将深冷靶直接暴露,包括:安装于所述悬臂基座上的电机驱动单元,包括驱动电机;安装于所述悬臂基座上的丝杆传动机构,包括运动架,用于将所述驱动电机的转动转化为所述运动架的前后向直线运动;以及前部防护部件,包括从内向外依次设置的、前端开口的低温活动屏和常温活动屏,以及具有导冷、导向作用的低温固定屏和常温固定屏。该深冷靶低温吸附抑制开启机构,低温活动屏和常温活动屏具有伸缩功能,即在对深冷靶进行有效保护,减少杂质气体和有机物质冷冻吸附到靶表面,又可在需要时快速地将深冷靶直接暴露于真空腔体环境内。
搜索关键词: 深冷靶 低温 吸附 抑制 开启 机构
【主权项】:
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