[发明专利]深冷靶低温吸附抑制装置有效
| 申请号： | 202010586148.3 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN111863285B | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 黎军;雷海乐;代飞;王凯;林伟;漆小波;陶朝友;李喜波;刘元琼 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G21B1/03 | 分类号： | G21B1/03;G21B1/11;G21B1/25;B01D53/00;B01D49/00;B01D5/00 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 张汉钦 |
| 地址： | 621900 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种深冷靶低温吸附抑制装置，包括悬臂基座、位于悬臂基座前方的常温固定屏、低温固定屏以及常温活动屏、低温活动屏，低温固定屏的与导冷杆的导冷面紧固连接进行冷量传递，低温活动屏的外部设置有加热块和温度传感器，低温活动屏的温度通过温度传感器反馈至用于设定控制整体温度的控温系统，控温系统通过控制加热块将温度精确控制在设定范围内。本发明将杂质气体及有机悬浮物进行常温隔离和低温冷凝，常温隔离通过在真空大环境下再制造出小真空腔室把外部真空大环境内的杂质气体及有机悬浮物进行隔离，低温冷凝是通过低温屏蔽、容线套和导冷杆等低温组件将进入常温内部的杂质气体及有机悬浮物冷凝下来并吸附于低温组件表面。 | ||
| 搜索关键词： | 深冷靶 低温 吸附 抑制 装置 | ||
【主权项】：
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