[发明专利]离子修饰的原卟啉镓化合物及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202010588582.5 申请日: 2020-06-24
公开(公告)号: CN111848656B 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 张雷;朱迎男;张浩 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C07D487/22 分类号: C07D487/22;C07F5/00;A61K41/00;A61P31/04
代理公司: 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 代理人: 杨欢
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明属于有机合成和药物领域,具体涉及一种离子修饰的原卟啉镓化合物及其制备方法和应用。离子修饰的原卟啉镓化合物具有以下结构:其中m为1,2或3;n为1,2或3;R1为乙基或乙烯基;R2为H,COO或SO3‑;M‑X为Ga‑Cl或者Ga‑NO3;当原卟啉类化合物络合镓之后,除了具有原卟啉类光敏剂光动力抗菌的性能,同时又赋予化合物阻断铁代谢的抗菌机制,双管齐下,协同抗菌,有利于降低最小抑菌浓度,提高抗菌效率,增强对细菌的靶向性,克服细菌耐药性。
搜索关键词: 离子 修饰 卟啉 化合物 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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