[发明专利]曝光装置、曝光方法和制造物品的方法在审
| 申请号： | 202010590397.X | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN112130421A | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 宫野皓贵;小泉僚;茂泉纯;三上晃司 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了曝光装置、曝光方法和制造物品的方法。曝光装置包括：第一温度控制器，用于控制投影光学系统的光学元件上的温度分布；第二温度控制器，用于控制投影光学系统的光学元件上的温度分布，其中，在执行曝光操作的第一时段中，第一温度控制器和第二温度控制器中的至少一个操作以减小由于执行曝光操作而引起的投影光学系统的像差的变化，并且在第一时段之后并且不执行曝光操作的第二时段中，第一温度控制器和第二温度控制器中的至少一个操作以减小由于不执行曝光操作而引起的像差的变化。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 制造 物品 | ||
【主权项】：
暂无信息
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