[发明专利]一种基于平面图案化高分子刷的无机二维纳米材料的制备方法有效
| 申请号： | 202010595499.0 | 申请日： | 2020-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN111876757B | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 岳衎;刘沛江;陈雨桐 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | C23C18/16 | 分类号： | C23C18/16;C23C18/44;C01G49/08;B82Y40/00;B82Y30/00;C08F292/00;C08F220/06;C08F220/14;C08F293/00;C08F220/34;C08F212/08;C08F226/10;C08F220/18 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 殷妹 |
| 地址： | 510640 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于平面图案化高分子刷的无机二维纳米材料的制备方法。所述方法包括以下步骤：(1)在光滑平面基底上接ATRP引发剂，然后再通过光诱导SI‑ATRP和光掩板图案化处理相结合的方法，在基底表面生长图案化的双嵌段共聚物刷；(2)将图案化高分子刷泡入多种无机纳米前驱体溶液中0.5‑240小时，通过配位作用和静电作用将无机前驱体选择性装载至嵌段高分子刷的内层特定嵌段层；(3)最后通过原位反应在基底表面制备多种无机二维纳米材料。该方法能够在介观尺度上精确控制材料的尺寸和形貌，并且可以一次加工成型，能适用于制备多种无机二维材料。所制备的无机二维纳米材料可广泛应用于能源、催化、电子和电器领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 平面 图案 高分子 无机 二维 纳米 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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