[发明专利]投射光学系统和投影仪有效
| 申请号： | 202010595884.5 | 申请日： | 2020-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN112147832B | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 峯藤延孝 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/14 | 分类号： | G03B21/14;G02B13/00;G02B13/18 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李庆泽;邓毅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 投射光学系统和投影仪，能够在不形成中间像的情况下，投射抑制了畸变像差的放大像。投射光学系统(3A)由具有负屈光力的第1透镜组(LG1)、具有正屈光力的第2透镜组(LG2)、具有正屈光力的第3透镜组(LG3)构成。第1透镜组(LG1)具有3片负透镜，第2透镜组(LG2)具有正透镜，第3透镜组(LG3)具有多个正透镜和第2接合透镜(SL2)。第1透镜组(LG1)的负透镜均为单透镜。在设缩小侧数值孔径为NA、缩小侧最大像高处的畸变像差为Dst的情况下，满足条件式(1)、条件式(2)：0.2NA……(1)‑45％Dst‑10％……(2)。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 光学系统 投影仪 | ||
【主权项】：
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