[发明专利]一种调控纳米光栅光轴三维方向的方法、系统及应用有效

专利信息
申请号: 202010595903.4 申请日: 2020-06-28
公开(公告)号: CN111790980B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 张静宇;高骥超;刘思垣 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: B23K26/00 分类号: B23K26/00;B23K26/70;G02B5/18;G02B27/09;G02B27/28
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种调控纳米光栅光轴三维方向的方法、系统及应用,属于激光加工领域,方法包括:根据目标三维方向确定纳米光栅光轴在垂直于激光入射方向的平面Sv内的旋转角θv,以及在平行于激光入射方向的平面Sp内的旋转角θp;根据旋转角θv调整入射的激光光束的偏振方向,并根据旋转角θp改变激光光束的光强分布,得到加工光束;加工光束在聚焦前、后的偏振状态不同;将加工光束聚焦于熔融石英以写入纳米光栅,使得加工得到的纳米光栅的光轴在平面Sv和平面Sp内的旋转角分别为θv和θp。本发明能够实现对熔融石英中纳米光栅光轴三维方向的调控,提高光存储的容量。
搜索关键词: 一种 调控 纳米 光栅 光轴 三维 方向 方法 系统 应用
【主权项】:
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