[发明专利]超大数值孔径严格矢量成像系统偏振像差的检测方法有效

专利信息
申请号: 202010597775.7 申请日: 2020-06-28
公开(公告)号: CN111897188B 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 李艳秋;李恩泽 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 李微微
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供超大数值孔径严格矢量成像系统偏振像差的检测方法,过程为:建立严格厚掩模矢量成像新的表征理论及模型,厚掩模效应的偏振像差JM与传统的薄掩模矢量成像模型乘积的理论形式,设计一组特定周期范围的测试掩模,在特定旋转对称(具有旋转不变性)光源照明下,利用厚掩模严格电磁场理论计算该组掩模的JM并对其建库,根据严格厚掩模矢量成像新的表征理论建立投影物镜偏振像差严格矢量测量模型,得到偏振像差J的展开系数与空间像频谱严格解析的非线性关系,通过分析厚掩模效应的性质建立同步测量法提高JM库的利用率和检测速度;最终得到超定测量方程组,并针采用神经网络算法对其逆向求解,实现高数值孔径成像系统偏振像差的高精度检测。
搜索关键词: 超大 数值孔径 严格 矢量 成像 系统 偏振 检测 方法
【主权项】:
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