[发明专利]高太阳光反射率乳浊釉及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010608150.6 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN111499202B 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 潘利敏;吴洋;汪庆刚;杨元东;萧礼标 申请(专利权)人: 蒙娜丽莎集团股份有限公司
主分类号: C03C8/20 分类号: C03C8/20;C03C8/02
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲;牛彦存
地址: 528211 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种高太阳光反射率乳浊釉及其制备方法。所述乳浊釉的原料组成包括:以质量百分比计,钛熔块8~12%,二氧化钛8~10%,方解石18~24%;所述乳浊釉的钙钛摩尔比为1.6‑2.2;其中,所述钛熔块的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:52~55%、Al2O3:7~11%、CaO:15~19%、TiO2:8~11%。该乳浊釉可用于瓷质砖,使用温度可超过1150℃,避免了传统乳浊釉当使用温度超过1000℃时由于金红石型二氧化钛的紫外吸收作用导致釉面发黄的缺陷。
搜索关键词: 太阳光 反射率 乳浊釉 及其 制备 方法
【主权项】:
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