[发明专利]高太阳光反射率乳浊釉及其制备方法有效
申请号: | 202010608150.6 | 申请日: | 2020-06-30 |
公开(公告)号: | CN111499202B | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
发明(设计)人: | 潘利敏;吴洋;汪庆刚;杨元东;萧礼标 | 申请(专利权)人: | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 |
主分类号: | C03C8/20 | 分类号: | C03C8/20;C03C8/02 |
代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;牛彦存 |
地址: | 528211 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: |
本发明公开一种高太阳光反射率乳浊釉及其制备方法。所述乳浊釉的原料组成包括:以质量百分比计,钛熔块8~12%,二氧化钛8~10%,方解石18~24%;所述乳浊釉的钙钛摩尔比为1.6‑2.2;其中,所述钛熔块的化学组成包括:以质量百分比计,SiO |
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搜索关键词: | 太阳光 反射率 乳浊釉 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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