[发明专利]制备金刚石单晶的激光等离子体CVD设备及其工作方法在审
申请号: | 202010609260.4 | 申请日: | 2020-06-29 |
公开(公告)号: | CN111719135A | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
发明(设计)人: | 魏朝兵 | 申请(专利权)人: | 安徽鑫泰钻石有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/48;C23C16/52;C23C16/56;C30B29/04;C30B25/02;C30B25/16;C30B33/00 |
代理公司: | 合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160 | 代理人: | 韩立峰 |
地址: | 236800 安徽省亳州市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开制备金刚石单晶的激光等离子体CVD设备及其工作方法,包括下箱体、上箱体,下箱体与上箱体之间通过铰链转动连接,上箱体上安装有两个激光灯,下箱体一侧设置有微波发生器,微波发生器上安装有微波发射喇叭,微波发射喇叭贯穿下箱体侧壁,下箱体内安装有下基座,下基座上转动设置有下基台。本发明通过甲烷、丙酮、二氧化碳混合气体的储存设备通过碳气管向上箱体与下箱体形成的空间通入混合气体,开启激光灯,激光灯对籽晶进行照射,开启第一电机,两个第一电机输出轴配合齿轮带动齿盘转动,齿盘通过下基台带动籽晶转动,籽晶进行生长,解决现有技术中激光灯对籽晶的照射不全面,导致籽晶生长不快的技术问题。 | ||
搜索关键词: | 制备 金刚石 激光 等离子体 cvd 设备 及其 工作 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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