[发明专利]一种耐原子氧聚合物膜层材料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种耐原子氧聚合物膜层材料及其制备方法，属于航空航天材料技术领域。所述膜层材料为五层复合结构，基体层为聚合物薄膜，中间过渡层依次为连接层、阻氧层和活性金属层，表层为阻氧层；其中，连接层为利用射频磁控溅射沉积的SiO2层；阻氧层为利用电子束蒸发技术制备的氧化铝或氧化锆层；活性金属层为利用磁过滤沉积的Mg、Al或Zn层。本发明选用电子束蒸发和磁过滤/射频磁控等方法的耦合制备耐原子氧聚合物膜层材料，以解决结合强度、热穿透和氧穿透的问题，不仅制备工艺简便，而且所制得的耐原子氧聚合物薄膜具有结构致密、无开裂的优点，以最终达到良好的原子氧防护效果。