[发明专利]利用氮化硼隔绝材料提高拉曼光谱强度的结构及制备方法有效
| 申请号： | 202010611632.7 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN111678910B | 公开（公告）日： | 2022-11-11 |
| 发明（设计）人： | 高静;田玉冰;张志强;姚文明;陈建生;王鹏 | 申请（专利权）人： | 苏州国科医工科技发展（集团）有限公司;中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;C08L23/08;C08L23/16;C08K3/08;C08J5/18;B22F9/24;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人： | 孔凡玲 |
| 地址： | 215163 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用氮化硼隔绝材料提高拉曼光谱强度的结构及制备方法，该结构包括金属基底、铺设在设置于所述金属基底上的待测样品上的单原子层氮化硼薄膜、铺设在所述单原子层氮化硼薄膜上的单层纳米粒子以及用于固定所述单层纳米粒子的柔性薄膜。本发明通过采用透明柔性薄膜固定单层纳米粒子，使单层纳米粒子均匀分布，解决了实验中由于样本凹凸不平引起的纳米粒子聚集的问题；通过选用厚度0.7nm的绝缘隔绝材料单原子层氮化硼薄膜将金属纳米粒子与测试样本隔断，消除了金属纳米粒子与被测样本直接接触产生的干扰信号，同时缩短了局域光电场与样本的相互作用距离，提高了拉曼信号的强度。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 氮化 隔绝 材料 提高 光谱 强度 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
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