[发明专利]一种光存储复合型忆阻器及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 202010611824.8 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN111725401B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 张磊;汪炼成;司佳威;肖灿城 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: H10N70/00 分类号: H10N70/00;H01L31/032;H01L31/09;H01L27/12;H01L31/18;H01L21/02;G11C13/04
代理公司: 长沙永星专利商标事务所(普通合伙) 43001 代理人: 周咏;林毓俊
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种光存储复合型忆阻器及其制备方法与应用,包括光电探测器和pn异质结构模拟型忆阻器,光电探测器和pn异质结构模拟型忆阻器共用一个衬底,光电探测器从衬底往上依次包括光电转化层和金属上电极,pn异质结构模拟型忆阻器从衬底往上依次包括金属下电极、p型氧化物薄膜层、n型氧化物薄膜层、金属上电极;光电探测器的金属上电极与pn异质结构模拟型忆阻器的金属上电极是连接在一起。本发明采用模拟型忆阻器(突触器件)与光电探测器复合制备成复合型忆阻器,可以通过不同光激发图像传感器光电导效应,精确调节模拟型忆阻器两端电压及电阻值,最终可以实现光信号对忆阻器阻值的精确调控,从而进一步实现更真实的人工视觉记忆仿生模拟。
搜索关键词: 一种 存储 复合型 忆阻器 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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