[发明专利]高流速泄洪洞消除反弧末端空蚀破坏的连接结构有效
申请号: | 202010613518.8 | 申请日: | 2020-06-30 |
公开(公告)号: | CN111794193B | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
发明(设计)人: | 彭育;都辉;薛阳;陶俊佳 | 申请(专利权)人: | 中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司 |
主分类号: | E02B8/06 | 分类号: | E02B8/06 |
代理公司: | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人: | 刘晓春 |
地址: | 310014*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种高流速泄洪洞消除反弧末端空蚀破坏的连接结构,包括龙落尾斜坡段,还包括:龙落尾反弧段,其设置为弧形结构,并与所述龙落尾斜坡段的下游端平顺连接;出口水平衔接段,其设置为水平结构,并与所述龙落尾反弧段的下游端平顺连接;出口挑流鼻坎,其设置为弧形结构,并与所述出口水平衔接段的下游端平顺连接。在龙落尾反弧段末端通过出口水平衔接段与出口挑流鼻坎平顺连接,取消较长的下游斜坡段,避免龙落尾反弧末端顺压梯度继续向下游斜坡段发展,导致空化空蚀破坏。 | ||
搜索关键词: | 流速 泄洪 消除 末端 破坏 连接 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司,未经中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010613518.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于MRAM的低功耗MCU电路
- 下一篇:一种钕铁硼真空烧结炉