[发明专利]匀光膜、背光模组和显示装置有效

专利信息
申请号: 202010614984.8 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN111624816B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 金亮亮;杨泽洲;张树柏;马若玉;桑建 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357;G02B5/02;G02B27/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 吴俣;姜春咸
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供了一种匀光膜,包括:基材膜层,基材膜层上设置呈阵列排布的多个匀光结构,匀光结构包括:位于基材膜层的入光面的第一凹槽和位于位于基材膜层的出光面的第二凹槽,入光面和入光面相对设置,第一凹槽与第二凹槽的形状均为为正棱锥形且互为相似形,第二凹槽在基材膜层的主体所处平面上的正投影完全覆盖第二凹槽在基材膜层的主体所处平面上的正投影,第一凹槽在基材膜层的主体所处平面上的正投影的轮廓为第一正多边形,第二凹槽在基材膜层的主体所处平面上的正投影的轮廓为第二正多边形,第一正多边形与第二正多边形的中心重合,第一正多边形上任意一点到第二正多边形的最小距离相等。
搜索关键词: 匀光膜 背光 模组 显示装置
【主权项】:
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