[发明专利]一种钴基材抛光液及其应用有效
| 申请号： | 202010618662.0 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN111635701B | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 刘卫丽;徐傲雪;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海新安纳电子科技有限公司;浙江新创纳电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/04 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所(普通合伙) 31233 | 代理人： | 魏峯;黄志达 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种钴基材抛光液及其应用，按重量百分比，包括如下组分：液相载体50‑80％；磨料0.1‑10％；氧化剂≤1％；铵盐化合物0.005‑20％；抑制剂0.1‑100mM。本发明通过选择合适的氧化剂、铵盐化合物以及抑制剂并将他们合理组合，通过提高机械和化学作用来提高抛光速率，控制Co表面腐蚀情况以及改善表面质量，具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基材 抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
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