[发明专利]一种谐振腔式高灵敏度纹影仪及其成像方法在审

专利信息
申请号: 202010619731.X 申请日: 2020-07-01
公开(公告)号: CN111579489A 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 刘光海;龙本兰;杨义乐 申请(专利权)人: 四川物科光学精密机械有限公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/45
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 张超
地址: 621000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种谐振腔式高灵敏度纹影仪及其成像方法,其中,纹影仪包括成像装置和谐振腔,所述谐振腔内设置有测试区域;当所述成像装置发出的平行光进入所述谐振腔,所述平行光经所述测试区域扰动后发生偏折得到偏折光,所述偏折光从所述谐振腔传输出来后经所述成像装置进行纹影图像记录。本发明的目的在于提供一种谐振腔式高灵敏度纹影仪及其成像方法,使得光束在谐振腔内来回反射,使光束多次受到流场扰动,加大光线偏折角,从而提高纹影仪的灵敏度,满足低密度流场的测量。
搜索关键词: 一种 谐振腔 灵敏度 纹影仪 及其 成像 方法
【主权项】:
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