[发明专利]一种耐候性高的阻隔膜结构在审

专利信息
申请号: 202010619872.1 申请日: 2020-07-01
公开(公告)号: CN111775518A 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 胡文玮 申请(专利权)人: 汕头万顺新材集团股份有限公司;广东万顺科技有限公司
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;B32B9/04;B32B33/00;B32B15/095;B32B15/092;B32B15/08;B32B15/082;B32B15/09;B32B15/085;B32B15/04;B32B27/36;B32B27/28;B32B27/32;B32B27
代理公司: 广州知顺知识产权代理事务所(普通合伙) 44401 代理人: 彭志坚
地址: 515078 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提出一种耐候性高的阻隔膜结构,包括柔性基膜、底涂层、第二无机物阻隔层、无机物反应层、第一无机物阻隔层和有机物保护层,所述柔性基膜的一侧设置所述底涂层,所述底涂层相对所述柔性基膜的另一侧设置所述第二无机物阻隔层,所述第二无机物阻隔层相对所述底涂层的另一侧设置所述无机物反应层,所述无机物反应层相对所述第二无机物阻隔层的另一侧设置所述第一无机物阻隔层,所述第一无机物阻隔层相对所述无机物反应层的另一侧设置所述有机物保护层。本发明在无机物阻隔层之间夹入一无机物反应层,藉由阻挡、吸收、再阻挡之特性,达到高阻隔之效果,同时兼具生产效能。
搜索关键词: 一种 耐候性高 阻隔 膜结构
【主权项】:
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