[发明专利]一种真空度优于1×10-8

摘要

本发明公开了一种真空度优于1×10‑8Pa的全玻璃光学原子腔及制备方法，其全玻璃光学原子腔包括光学真空腔体、导管、光学窗口片、真空转接器及压片，所述光学真空腔体为任意形状平面的多面体，多面体的平面上设有光学窗口，光学窗口向多面体内延伸的孔洞形成同一内腔；所述光学窗口片固定于所述光学窗口上；所述导管一端固定连接光学真空腔体，另一端通过压片与真空转接器连接，真空转接器另一端连接真空泵。采用光胶真空键合工艺，该工艺实施过程始终在真空环境中进行，适当的温度和负压环境有利于被键合物体表面气体排出更好的形成物体间分子与分子之结合。本发明实现了真空腔体的工作区域内完全无金属物质的结构，使得工作区域不会受到不锈钢真空腔体的磁场干扰。