[发明专利]一种存储单元、存储器及存储器的制备方法有效
| 申请号： | 202010622368.7 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN111799275B | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 曾斌建;周益春;廖敏 | 申请（专利权）人： | 湘潭大学 |
| 主分类号： | H01L27/1157 | 分类号： | H01L27/1157;H01L27/1159;H01L27/11582;H01L27/11597 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 郑久兴 |
| 地址： | 411100 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种存储单元、存储器及存储器的制备方法，其中，存储单元，包括：依次设置的第一沟道层、隧穿层、电荷俘获层、反铁电薄膜层和控制栅电极；所述控制栅电极用于提供控制电压；所述反铁电薄膜层用于在所述控制电压的作用下增强隧穿层的电场；所述电荷俘获层用于通过俘获从所述沟道层注入的电荷存储信息。本发明的存储单元工作电压低、存取速度快且存储窗口大。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 存储 单元 存储器 制备 方法 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
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