[发明专利]一种三维NAND铁电存储器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010622380.8 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN111799263A 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 曾斌建;周益春;廖敏 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: H01L27/11507 分类号: H01L27/11507;H01L27/11509;H01L27/11514;H01L29/66;H01L29/78;H01L29/786;H01L21/34
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 郑久兴
地址: 411100 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种三维NAND铁电存储器及其制备方法,其中,三维NAND铁电存储器,包括:依次层叠设置的基底层(1)、导电层(2)和叠构层,所述叠构层包括交叠设置的多层隔离层和多层控制栅电极层;及多组通道组,多组通道组中每一组均包括两个通道,所述两个通道均贯穿叠构层设置,两个通道的底端嵌于导电层(2),且两个通道的底端连通,两个通道之间设置有使两个通道的控制栅电极层分离开的分离层(6),通道内壁上依次设置有缓冲层(7)、铁电薄膜层(8)、沟道层(9),使两个通道形成多个铁电场效应晶体管(13)串联组成的通道组(5)。该存储器的通道组设置可以获得更为紧凑的布线,实现更高密度集成,且可靠性更高。
搜索关键词: 一种 三维 nand 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
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