[发明专利]一种基于短平面反射器实现减少后向辐射的薄层缝隙天线在审

专利信息
申请号: 202010637237.6 申请日: 2020-07-04
公开(公告)号: CN111682313A 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 王宜颖;徐远铮;张胜妃;于新华;曹卫平;莫锦军;姜彦南;伍铁生 申请(专利权)人: 桂林电子科技大学
主分类号: H01Q1/38 分类号: H01Q1/38;H01Q19/10;H01Q1/50
代理公司: 桂林文必达专利代理事务所(特殊普通合伙) 45134 代理人: 张学平
地址: 541004 广西*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明公开了一种基于短平面反射器实现减少后向辐射的薄层缝隙天线,包括介质基板、缝隙天线、平面发射器和微带线,所述缝隙天线位于所述介质基板的一侧,所述平面发射器的数量为两个,所述微带线和两个所述平面发射器均位于所述介质基板远离所述缝隙天线的一侧,且均与所述缝隙天线垂直,两个所述平面发射器对称设置于所述微带线的两侧,且一端沿所述微带线方向平行延伸跨越所述缝隙天线。相对于现有技术,该天线在不额外增加缝隙天线尺寸的前提下,在介质厚度仅为0.015(自由空间波长)实现减少天线朝向馈电微带线端的辐射,提高了缝隙天线的增益。
搜索关键词: 一种 基于 平面 反射 实现 减少 辐射 薄层 缝隙 天线
【主权项】:
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