[发明专利]基于UV-LED光刻光源的扫描式曝光方法在审
| 申请号： | 202010637416.X | 申请日： | 2020-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN111796490A | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | 朱煜;杨开明 | 申请（专利权）人： | 北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李玉琦;曹素云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于UV‑LED光刻光源的扫描式曝光方法，包括：利用UV‑LED光源作为光刻光源，以形成光强均匀分布的狭缝曝光场；通过掩模对准系统将掩模标记与晶圆标记对准；通过微透镜阵列对所述UV‑LED光源的出光光束进行准直，并在掩模表面形成狭缝曝光光斑；通过扫描式曝光将掩模图案传递到涂有光刻胶的晶圆上。本发明单次扫描可完成几倍于狭缝光源面积的曝光，提高曝光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 uv led 光刻 光源 扫描 曝光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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