[发明专利]一种异形玻璃掩膜版生产方法在审
| 申请号： | 202010639006.9 | 申请日： | 2020-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN111830784A | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 荆学军;熊启龙 | 申请（专利权）人： | 深圳清溢光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82;G03F1/68 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 宫建华 |
| 地址： | 518000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明实施例涉及光刻技术领域，公开了一种异形玻璃掩膜版生产方法，该方法通过接收待生产掩膜版图形，通过CAM系统对所述待生产掩膜版图形进行处理；根据CAM系统的处理结果，对玻璃掩膜版进行常规工艺处理；对常规工艺处理后玻璃掩膜版进行异性工艺处理，则完成异性玻璃掩膜版生产进行包装出货，本发明实施例提供的异形玻璃掩膜版生产方法实现了异形玻璃掩膜版生产，尤其通过异形加工前的掩膜版保护和异形加工后的清洗，使得加工过程中不损坏掩膜版的功能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 异形 玻璃 掩膜版 生产 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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