[发明专利]等离子体处理方法及等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202010640097.8 | 申请日： | 2020-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN112242290A | 公开（公告）日： | 2021-01-19 |
| 发明（设计）人： | 舆水地盐 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 示例性实施方式所涉及的等离子体处理方法包括在等离子体处理装置的腔室内准备基板的工序。基板在腔室内配置于基板支承器之上。基板支承器包括下部电极及静电卡盘。静电卡盘设置于下部电极之上。等离子体处理方法还包括为了进行相对于基板的等离子体处理而在腔室内已生成等离子体时，对导电性部件施加正极性电压的工序。导电性部件在相比基板更靠腔室的被接地的侧壁附近延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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