[发明专利]一种全息光栅扫描光刻曝光量监测装置及调整方法有效
| 申请号： | 202010640570.2 | 申请日： | 2020-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN111708258B | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 宋莹;张刘;朱杨;赵寰宇;王文华;范国伟;章家保;张帆 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中理通专利代理事务所(普通合伙) 11633 | 代理人： | 刘慧宇 |
| 地址： | 130012 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 一种全息光栅扫描光刻曝光量监测装置及调整方法，涉及全息光栅制作领域。解决现有全息光栅扫描光刻曝光量工艺参数控制性差，光栅制作效率低，且采用静态监测方法，无法满足使用要求等问题，监测光源发出的监测激光用于曝光量监测，电控光闸控制监控激光入射到潜像光栅上，形成监测光斑；监控激光经由潜像光栅产生一级潜像衍射光，一级潜像衍射光经过滤光片，进入光电探测器；位移速度测量系统获取工作台Y向位移及速度，作为对曝光量进行控制的参数；控制器控制电控光闸的打开和关闭，控制同一触发信号同步采集位移速度测量系统和光电探测器的输出数据。本发明可实现全息光栅扫描光刻过程中曝光量的有效监测，保证曝光量工艺参数可控性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 全息 光栅扫描 光刻 曝光 监测 装置 调整 方法 | ||
【主权项】：
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