[发明专利]一种铌酸锂自支撑薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010645070.8 申请日: 2020-07-07
公开(公告)号: CN111850692A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 欧欣;徐文慧;游天桂;沈正浩 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: C30B29/30 分类号: C30B29/30;G02F1/355
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;贾允
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种铌酸锂自支撑薄膜的制备方法,包括:获取具有抛光面的铌酸锂单晶晶片;获取高阻衬底,并在所述高阻衬底上沉积一层介电层;在所述介电层的表面刻蚀沟槽;将所述铌酸锂单晶晶片的所述抛光面与所述介电层具有所述沟槽的表面键合形成第一复合结构;对所述第一复合结构进行减薄处理后得到第二复合结构;对所述第二复合结构进行表面处理后得到第三复合结构;将所述第三复合结构放入处理液中进行腐蚀,得到所述铌酸锂自支撑薄膜。通过上述方法得到的铌酸锂自支撑薄膜与铌酸锂单晶晶片的质量一样,从而解决了现有技术中制备铌酸锂薄膜时由于离子束作用而造成的薄膜缺陷问题。
搜索关键词: 一种 铌酸锂 支撑 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
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