[发明专利]窄光谱响应的光电探测器及其制作方法和设计方法有效

专利信息
申请号: 202010645475.1 申请日: 2020-07-06
公开(公告)号: CN111769168B 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 曾磊;王肇中;李林;刘媛媛 申请(专利权)人: 武汉光谷量子技术有限公司
主分类号: H01L31/0232 分类号: H01L31/0232;H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 代理人: 孟欢
地址: 430000 湖北省武汉市东湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请涉及一种窄光谱响应的光电探测器及其制作方法和设计方法,所述光电探测器自上而下依次包括第一反射镜、功能区和第二反射镜;所述第一反射镜为通过气相沉积法形成的分布式布拉格DBR反射镜;所述第二反射镜为高折射率对比度的悬空反射镜,且所述第二反射镜的折射率对比度大于2。本申请提供的窄光谱响应的光电探测器,具有厚度小、制造成本低、工艺难度小的优点。
搜索关键词: 光谱 响应 光电 探测器 及其 制作方法 设计 方法
【主权项】:
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