[发明专利]一种在基体材料上形成的复相环境障涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010645830.5 申请日: 2020-07-07
公开(公告)号: CN111876714B 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 张宝鹏;裴雨辰;于新民;刘伟;陈鑫阳 申请(专利权)人: 航天特种材料及工艺技术研究所
主分类号: C23C4/11 分类号: C23C4/11;C23C4/134;C23C4/04
代理公司: 北京格允知识产权代理有限公司 11609 代理人: 刘晓
地址: 100074 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种在基体材料上形成的复相环境障涂层及其制备方法。复相环境障涂层自基体材料向外依次包括硅粘结层、莫来石层和由硅酸镥与硅酸钪混合而成的Lu2SiO5‑Sc2Si2O7复相陶瓷层。所述方法:将硅粉、莫来石粉和由硅酸镥粉与硅酸钪粉混合而成的混合粉分别装入超低压等离子喷涂设备的送粉器中并进行干燥处理;将基体材料固定在喷涂舱室内的转动台上;在基体材料的表面依次制备硅粘结层、莫来石层和Lu2SiO5‑Sc2Si2O7复相陶瓷层,制得所述复相环境障涂层。本发明的复相环境障涂层抗热冲击寿命长,高温抗水‑氧腐蚀性能优异;本发明方法能在超低压环境下快速、低成本、一体化制备所述复相环境障涂层。
搜索关键词: 一种 基体 材料 形成 环境 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
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