[发明专利]一种曝光方法及曝光装置有效
| 申请号： | 202010647419.1 | 申请日： | 2020-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN113900356B | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 周晓方 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成丽杰 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光方法及曝光装置。所述曝光方法包括：提取当前晶圆组中各晶圆的首层图形或前层图形的曝光规则，曝光规则包括晶圆编号与承载台的对应关系；根据当前晶圆组中各晶圆的当层图形的实际曝光信息，获取当前晶圆组内的至少一个空缺晶圆的编号；剔除当层图形的曝光规则中的至少一个空缺晶圆的编号，将同一承载台对应的排列顺序后于各空缺晶圆的编号的晶圆编号依次前移，补齐编号空缺位，以获得当层图形的曝光规则；根据当层图形的曝光规则对当前晶圆组中各晶圆的当层图形进行曝光。本发明实施例的技术方案，避免了承载台出现空载的情况，提升了曝光机的产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
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