[发明专利]一种面向化铣演变的激光刻型过程的轨迹规划方法有效
| 申请号： | 202010647432.7 | 申请日： | 2020-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN111736531B | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 刘强;王健;臧辰鑫;孙鹏鹏 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学;北京航空航天大学江西研究院 |
| 主分类号： | G05B19/4099 | 分类号： | G05B19/4099 |
| 代理公司： | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人： | 张爽 |
| 地址： | 100191 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种面向化铣演变的激光刻型过程的轨迹规划方法，属于激光表面制造技术。其技术要点在于，基于两次化铣演变的化铣零件第二次刻蚀三维数模期望点选取；基于化铣演变的第二次激光刻型位置点选取；化铣零件三维数模第一次激光刻型期望点选取；第一次激光刻型位置点选取；面向规则特征的轨迹规划；面向自由曲线特征的轨迹规划。本发明建立了基于化铣演变的变侵蚀比的激光刻型轨迹规划，有效解决了不同侵蚀比条件/不同化铣深度条件下激光刻型轨迹的智能生成问题，可以更好的保证制造精度提升激光刻型效率，使激光刻型制造加工更加智能化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 面向 演变 激光 过程 轨迹 规划 方法 | ||
【主权项】：
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