[发明专利]一种面向激光刻型的自适应控制方法有效

专利信息
申请号: 202010647477.4 申请日: 2020-07-07
公开(公告)号: CN111673265B 公开(公告)日: 2021-04-27
发明(设计)人: 刘强;王健;臧辰鑫;孙鹏鹏 申请(专利权)人: 北京航空航天大学;北京航空航天大学江西研究院
主分类号: B23K26/00 分类号: B23K26/00;B23K26/70
代理公司: 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 代理人: 周春
地址: 100191 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种面向激光刻型的自适应控制方法,属于激光表面制造技术。本发明涉及的工艺和方法,包括:激光器选取,激光控制参数与刻型功率匹配测试,激光刻型能量密度测定;激光刻型工艺选取与许用区间测试,激光刻型工艺参数与运动参数的自适应匹配控制,多轴激光刻型装备上激光刻型加工。本发明在传统激光刻型单一激光工艺参数输入的基础上,引入了激光功率与机床运动的匹配控制,实现了激光刻型参数的最优化选择,可更好的解决激光刻型过程中激光刻型在加减速位置的激光刻型精度和质量,使刻型工艺更加智能化。
搜索关键词: 一种 面向 激光 自适应 控制 方法
【主权项】:
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