[发明专利]一种超导腔中温退火方法有效
| 申请号： | 202010648759.6 | 申请日： | 2020-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN111800933B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 贺斐思;潘卫民;沙鹏;米正辉;刘佰奇;靳松;翟纪元;戴旭文;葛锐;李中泉;刘振超;戴劲;董超;杜磊;赵建兵;张占军;孙良瑞 | 申请（专利权）人： | 中国科学院高能物理研究所 |
| 主分类号： | H05H7/18 | 分类号： | H05H7/18 |
| 代理公司： | 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 | 代理人： | 司立彬 |
| 地址： | 100049 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超导腔中温退火方法，本方法为：1)对超导腔的内表面进行电化学抛光及清洗；2)如果超导腔为已除氢的超导腔，则进行步骤3)；否则对超导腔进行高温退火，然后进行步骤3)；3)将超导腔置于真空炉中，抽真空并加热至中温区，保温一段时间进行中温退火。本发明相比传统超导腔处理工艺能够进一步降低超导腔的表面电阻，从而减小超导腔的功耗，并且能够简化工艺流程。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超导 腔中温 退火 方法 | ||
【主权项】：
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