[发明专利]阵列基板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202010652586.5 申请日: 2020-07-08
公开(公告)号: CN111785736A 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 翟玉浩 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 王芳芳
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供一种阵列基板,所述阵列基板包括:柔性基板;依次设置于所述柔性基板上的有源层图案、栅极绝缘层图案、栅极图案以及层间介质层图案;其中,所述层间介质层图案包括第一层间介质层图案和设置在所述第一层间介质层图案上的第二层间介质层图案,所述第一层间介质层图案的材料为无机材料,所述第二层间介质层图案的材料为有机材料。该方案能够有效减少阵列基板中的无机膜层,提高阵列基板的耐弯折性,避免裂纹产生。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法
【主权项】:
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