[发明专利]一种CdTe/CdSe@MIPs QDs分子印迹聚合物的制备与应用有效

专利信息
申请号: 202010658603.6 申请日: 2020-07-09
公开(公告)号: CN111944152B 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 周敏;陈志风 申请(专利权)人: 西北师范大学
主分类号: C08G77/26 分类号: C08G77/26;C08G77/08;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/34;C02F101/38;C08L83/08
代理公司: 兰州智和专利代理事务所(普通合伙) 62201 代理人: 张英荷
地址: 730070 甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种CdTe/CdSe@MIPs QDs分子印迹聚合物的制备方法,是以巯基乙酸(TGA)修饰的水相CdTe/CdSe量子点为荧光载体,通过对其表面进行硅烷化修饰,以TC为模板分子,再以3‑氨丙基三乙氧基硅烷为功能单体、正硅酸乙酯为交联剂、氨水为催化剂,成功制备了量子点表面分子印迹聚合物(CdTe/CdSe@MIPs QDs),实验制备过程简单。该CdTe/CdSe@MIPs QDs以四环素为模板分子,通过功能单体和交联剂三者之间的相互作用,形成了具有四环素特异性识别位点的量子点分子印迹聚合物,实现了对目标物四环素的特异性识别,在与模板分子结构相似物质中达到对目标物的高选择性测定要求。
搜索关键词: 一种 cdte cdse mips qds 分子 印迹 聚合物 制备 应用
【主权项】:
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