[发明专利]一种抛光垫、抛光设备及硅片的抛光方法在审
| 申请号： | 202010659738.4 | 申请日： | 2020-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN111941251A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 沙酉鹤;谢越 | 申请（专利权）人： | 上海新昇半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24D13/14 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 高伟 |
| 地址： | 201306 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抛光垫、抛光设备及硅片的抛光方法，所述抛光垫包括与硅片接触的抛光面，所述抛光面开设有至少一个凹槽，所述凹槽的开槽位置使得在对硅片进行抛光时，所述硅片的边缘至少部分悬空在所述凹槽的上方。根据本发明的抛光垫、抛光设备及硅片的抛光方法可以在保持整片的抛光速率基本不变的情况下，只降低硅片边缘位置的抛光速率，从而改善硅片边缘厚度的平坦度，提升产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 设备 硅片 方法 | ||
【主权项】：
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