[发明专利]气相沉积装置

摘要

本申请公开了一种气相沉积装置，包括：下腔罩组件；上腔罩，上腔罩装配在下腔罩组件的上方，包括上腔罩板、自上腔罩板沿径向向外延伸的第一延伸部和自上腔罩板沿轴向且向下腔罩组件延伸的第二延伸部，且第一延伸部在高度上处于上腔罩板的上方，第二延伸部与下腔罩组件的配合接口相配合，上腔罩板、下腔罩组件和第二延伸部围成反应腔；支撑环，其在轴向上设置在第二延伸部与下腔罩组件之间；第一密封圈，第一密封圈设置在第一延伸部与支撑环之间。根据本申请的气相沉积装置，直线传播的红外线将不会照射到第一密封圈上，这样第一密封圈的老化速度将会大幅减慢，这有助于减少停机频率。