[发明专利]一种高频可调节磁场探测器的制备方法有效

专利信息
申请号: 202010661706.8 申请日: 2020-07-10
公开(公告)号: CN111880124B 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 欧欣;伊艾伦;黄凯;赵晓蒙;张师斌 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: G01R33/00 分类号: G01R33/00
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;贾允
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及磁场探测技术领域,本发明公开了一种高频可调节磁场探测器的制备方法。该探测器的制备方法具体如下,通过对具有二氧化硅介质层的碳化硅薄膜衬底进行图形化,进而得到待键合碳化硅薄膜衬底,并将该待键合碳化硅薄膜衬底与压电薄膜衬底进行键合,对键合后的薄膜衬底进行退火剥离,得到碳化硅‑压电薄膜结构,再通过刻蚀掉该碳化硅‑压电薄膜内部的部分二氧化硅介质层,之后通过制备叉指电极、低温快退火等工序,得到该磁场探测器。本申请提供的磁场探测器具有频率高和灵敏度高的特点。
搜索关键词: 一种 高频 调节 磁场 探测器 制备 方法
【主权项】:
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