[发明专利]一种磁场阵列工作台系统及面曝光3D打印设备及方法有效
| 申请号： | 202010661719.5 | 申请日： | 2020-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN111976133B | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 武向权;徐春杰;张忠明;郭灿 | 申请（专利权）人： | 西安理工大学 |
| 主分类号： | B29C64/129 | 分类号： | B29C64/129;B29C64/245;B29C64/255;B29C64/314;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y40/10 |
| 代理公司： | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人： | 燕肇琪 |
| 地址： | 710048 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开的一种磁场阵列工作台系统，包括有工作台上安装板，工作台上安装板的上表面设置有工作台转接头，工作台上安装板下方设置有工作台下安装板，工作台下安装板的下表面设置有工作台底部板；工作台下安装板的上表面设置有安装孔单元，安装孔单元内安装有磁场阵列单元；连接后的工作台上安装板与工作台下安装板之间形成空腔，空腔容纳有磁场阵列单元，空腔内还设置有磁场阵列驱动电路，磁场阵列驱动电路位于磁场阵列单元上方并与磁场阵列单元通过导线连接。该工作台系统解决了现有技术中存在的只有统一磁场，不能改变曝光面内的磁场局部分布的问题。还提供了一种面曝光3D打印设备及一种3D打印数字材料方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁场 阵列 工作台 系统 曝光 打印 设备 方法 | ||
【主权项】：
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