[发明专利]追加曝光装置以及图案形成方法在审
| 申请号： | 202010667154.1 | 申请日： | 2020-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN112286001A | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 立石卓也 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 日本京都府京都市上京区堀*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种追加曝光装置以及图案形成方法，其可避免因产生灰尘而污染基板。追加曝光装置(16B)用于对通过对基板(800)上的感光性树脂膜进行曝光及显影所形成的图案(801)进一步进行曝光。追加曝光装置(16B)具有搬送机构(500)与多个发光二极管(101)。搬送机构(500)用于沿着与基板(800)的宽度方向(x)垂直的搬送方向(y)搬送基板(800)。多个发光二极管(101)用于产生针对由搬送机构(500)所搬送的基板(800)上的图案(801)的光。 | ||
| 搜索关键词： | 追加 曝光 装置 以及 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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