[发明专利]用于晶片边缘检验及复检的方法及系统有效
申请号: | 202010668841.5 | 申请日: | 2016-08-10 |
公开(公告)号: | CN111785602B | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | 姜辛容;C·西尔斯;H·辛哈;D·特雷斯;叶伟;D·卡兹 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/153 | 分类号: | H01J37/153 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 刘丽楠 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本申请实施例是关于用于晶片边缘检验及复检的方法及系统。一种用于检验或复检样本的边缘部分的电子光学系统包含:电子束源,其经配置以产生一或多个电子束;样本载台,其经配置以固定所述样本;及电子光学柱,其包含经配置以将所述一或多个电子束的至少一部分引导到所述样本的边缘部分上的一组电子光学元件。所述系统还包含:样本位置参考装置,其围绕所述样本而安置;及保护环装置,其安置于所述样本的所述边缘与所述样本位置参考装置之间以补偿一或多个边际场。所述保护环装置的一或多个特性是可调整的。所述系统还包含检测器组合件,所述检测器组合件经配置以检测从所述样本的表面发出的电子。 | ||
搜索关键词: | 用于 晶片 边缘 检验 复检 方法 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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