[发明专利]基于点云法线与曲率变化双约束曲面误差显著点识别方法有效
| 申请号： | 202010675830.X | 申请日： | 2020-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN111986308B | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | 彭芳瑜;杨岑岑;周林;吉鹏晖;邓犇 | 申请（专利权）人： | 武汉数字化设计与制造创新中心有限公司 |
| 主分类号： | G06T17/00 | 分类号： | G06T17/00;G06T15/00;G06T7/11;G06T7/13 |
| 代理公司： | 武汉知产时代知识产权代理有限公司 42238 | 代理人： | 易滨 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供基于点云法线与曲率变化双约束的曲面误差显著点识别方法，包括以下：使用扫描仪对工件扫描，得到点云数据；对点云数据进行滤波去噪，采用kd‑tree方法对点云进行划分；在kd‑tree中使用K近邻差找建立每一个点与其邻近点的邻域关系，并求取点云法线、曲率；采用基于深度优先搜索的区域生长算法对整个点云进行遍历，添加点云法线与曲率变化的双约束作为区域生长的限制条件；对区域生长得到的区域进行筛选，去除极小、极大区域；对剩余的相邻区域进行合并，得到识别出的误差显著点点云；对识别得到的误差显著点点云进行边界提取，同时确定出误差显著点的位置信息。本发明提供的有益效果是：提高了点云误差显著点识别的搜索效率、准确率和位置精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 法线 曲率 变化 约束 曲面 误差 显著 识别 方法 | ||
【主权项】：
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