[发明专利]基于高斯过程回归的聚合物分子量分布的预测方法在审

专利信息
申请号: 202010680269.4 申请日: 2020-07-15
公开(公告)号: CN111863151A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 娄维尧;肖凡;杨克允;马正阳;沈伟健;林韩波;刘明威;蔡姚杰 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: G16C20/30 分类号: G16C20/30;G16C20/20
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 周红芳
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了基于高斯过程回归的聚合物分子量分布的预测方法,获取聚合反应过程中的所有工艺参数,记录相应的聚合物分子量浓度分布的历史数据并进行提纯处理,然后对所有工艺参数、提纯后的聚合物分子量分布以及其浓度分布均进行归一化处理后,导入到训练模型中,通过高斯过程分布模型对聚合反应过程中所有已知的工艺参数下所对应的聚合物分子量浓度分布的数据进行训练和模拟,进行预测模型的搭建。本发明涉及聚合物分子量分布数据的处理方式和高斯过程回归模型在聚合反应中的应用,通过两者的结合能够进行现有聚合物分子量分布数据的分析和对未知反应条件下的聚合物分子量分布进行很好的预测。
搜索关键词: 基于 过程 回归 聚合物 分子量 分布 预测 方法
【主权项】:
暂无信息
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