[发明专利]一种微阵列结构图案化的工艺在审
申请号: | 202010682176.5 | 申请日: | 2020-07-15 |
公开(公告)号: | CN113213419A | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
发明(设计)人: | 高宏军;陈芳芳;陈玉平;高明;王布强 | 申请(专利权)人: | 江苏力博医药生物技术股份有限公司 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 廖慧敏 |
地址: | 214400 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供了一种微阵列结构图案化的工艺,本发明包括步骤一、获得气态介质;步骤二、将气态介质通入到放置有基底的冷凝环境中,控制冷凝环境温度、压力,并控制基底的温度,使气态介质在基底表面凝结形成微珠;步骤三、对冷凝环境的压力、温度和湿度进行调节进而控制微珠大小,形成所需大小的微珠;步骤四、使冷凝的微珠冷却凝固制成固态微珠,在基底上获得固态微珠的微阵列;步骤五、将树脂注入具有微阵列的基底表面,使树脂与固态微珠表面贴合,当树脂覆盖基底表面的微阵列且流平后,使树脂固化,形成稳定结构;步骤六、去除稳定结构上的介质后即获得图案化的微阵列结构。本发明具有工艺简单、成本低廉等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 结构 图案 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
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