[发明专利]一种高分散大孔容孔径窄分布水合二氧化硅及其制备方法有效
申请号: | 202010684629.8 | 申请日: | 2020-07-15 |
公开(公告)号: | CN111825098B | 公开(公告)日: | 2023-10-27 |
发明(设计)人: | 毛善兵;于方祺;王永庆;阙伟东 | 申请(专利权)人: | 确成硅化学股份有限公司 |
主分类号: | C01B33/193 | 分类号: | C01B33/193;C08L9/06;C08L71/02;C08K13/04;C08K7/26 |
代理公司: | 北京伊诺未来知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11700 | 代理人: | 杨群 |
地址: | 214196 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本发明公开了一种高分散大孔容孔径窄分布水合二氧化硅,该水合二氧化硅的性能参数如下:分散等级10、汞渗透孔容≥1.7cm |
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搜索关键词: | 一种 分散 大孔容 孔径 分布 水合 二氧化硅 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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