[发明专利]一种减轻黄土区沟壁土壤侵蚀的植被建设方法有效

专利信息
申请号: 202010684969.0 申请日: 2020-07-16
公开(公告)号: CN111919630B 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 任宗萍;王凯博;高海东;谢梦瑶;周壮壮;张星;马晓妮 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: A01G9/029 分类号: A01G9/029;A01G17/00;A01G20/00
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 王丹
地址: 710048 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种减轻黄土区沟壁土壤侵蚀的植被建设方法,步骤1,对拟开展植被建设的坡面立地条件进行调查;步骤2,根据步骤1的坡面立地条件调查结果,对黄土高原不同立地条件下种植的植物品种进行选择;步骤3,对步骤2筛选的植物品种进行种子和苗木的选择;步骤4,进行坡面土地整理;步骤5,在步骤4整理后的坡面土地上进行坡面截水沟设计;步骤6,将步骤3筛选的种子和苗木种植在步骤5设计截水沟的坡面土地上。本发明通过减少坡面径流来水和改变径流路径,有效减轻沟壁土壤侵蚀,为区域水土流失治理和生态文明建设提供技术支撑。
搜索关键词: 一种 减轻 黄土 区沟壁 土壤侵蚀 植被 建设 方法
【主权项】:
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